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发表于 2022-9-2 10:20:45
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本帖最后由 梧桐山脚下 于 2022-9-2 10:44 编辑
在2021年的深圳国际会展中心,深圳量子科学与工程研究院展出的一台半米不到的电子束光刻机模型。
电子束光刻机是利用聚焦电子束,通过图形直写曝光,在晶片上获得图形化微纳尺寸结构与器件的一种高分辨图形化微纳加工技术手段,最高特征线宽可以小于5纳米,可为物理、化学、微电子、光电子、微纳光学及MEMS芯片制造加工提供不可替代的纳尺度结构制造技术支持。
据深圳量子科学与工程研究院介绍,在新型微纳器件制备和研究领域,电子束光刻机在当前量子器件与量子芯片的研发和加工中起到不可或缺的支撑作用。
国内迄今该类设备完全依赖进口,电子束光刻机成为严重制约中国基础科研与产业发展的“卡脖子”问题。
面对这一困局,南方科技大学深圳量子科学与工程研究院在广东省科学技术厅支持下,由俞大鹏院士牵头联合国内优势单位,目前成功完成了30千伏专业级电子束刻蚀机样机落装和整体测试,攻克了电子光学系统、电子束束闸、电子束矢量扫描发生器等关键核心技术。
一根普通头发的直径约为60-90微米,而这台电子束光刻机初步实现16纳米以下线宽、50纳米定位精度的微纳结构的加工,加工精度已达头发丝的千分之一水平。
而电子束所用的“光刻胶”也在深圳某公司紧张研制中,也达到了14纳米线宽,据这家公司的负责人介绍,根据原理,若深圳量子院的电子束达到更精度的水平,也会制造出5纳米以下线宽的微纳结构。
只有打破国外现在芯片制造的技术壁垒和专利,另辟另一技术途径,不再受制于最先进的光刻机,光刻胶等,才能追赶国际的先进水平。要不,永远落后于别人,而且差距越拉越大。(台积电量产3纳米,我们还只能量产28纳米)。
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